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专利名称: 一种中空TiO<sub>2<-sub>-MoS<sub>2<-sub>复合材料及其制备方法;  一种中空TiO<sub>2<-sub>-MoS<sub>2<-sub>复合材料及其制备方法
发明人: 杨明辉;  王传洗;  曲奉东;  风晓华;  王倩
授权日期: 2017-6-30
摘要: 本发明提供了一种中空TiO2<-sub>-MoS2<-sub>复合材料,所述TiO2<-sub>-MoS2<-sub>复合材料为MoS2<-sub>层状材料在外层形成壳层,TiO2<-sub>附着在壳层内部形成的中空结构。该结构能够提高对可见光的利用率,进而提高光催化效率。本发明还提供了上述中空TiO2<-sub>-MoS2<-sub>复合材料的制备方法,通过含有羟基、氨基或羧基的高分子聚合物吸附在TiO2<-sub>的表面起到保护刻蚀的作用,氟化物刻蚀内部的TiO2<-sub>,形成TiO2<-sub>-MoS2<-sub>中空结构。
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杨明辉,王传洗,曲奉东,等.一种中空tio2<-sub>-mos2<-sub>复合材料及其制备方法.Cn106902846a.2017.
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