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专利名称: 一种光电材料表面的纳米结构绒面及其制备方法;  一种光电材料表面的纳米结构绒面及其制备方法
发明人: 高平奇;  叶继春;  韩灿
授权日期: 2015-4-29
摘要: 本发明涉及一种光电材料表面的纳米结构绒面及其制备方法,具体地公开了一种光电材料表面的重构纳米结构绒面的制备方法,包括以下步骤:(a)提供一基片,在所述基片表面通过干法刻蚀或湿法刻蚀形成初始纳米结构;(b)对所述的初始纳米结构进行氧化处理,在初始纳米结构的表面形成氧化层;(c)部分或全部地去除所述的氧化层,得到纳米结构绒面。本发明还公开了一种由该方法制备的重构纳米结构绒面。本发明的方法制得的纳米结构绒面具有高陷光、低比表面积的特点,其反射率在较宽的波段范围内可以稳定在3%以下,特别适合于高效率太阳电池的制备。并且有望形成面向下一代规模化应用的黑硅电池技术。
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高平奇,叶继春,韩灿.一种光电材料表面的纳米结构绒面及其制备方法.Cn104576813a.2015.
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