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抛光方法及系统; 抛光方法及系统; 抛光方法及系统; 抛光方法及系统
夏庆华; 肖可; 闵孟斌; 金勤晓
2015-09-02
专利权人中国科学院宁波材料技术与工程研究所
公开日期2015-09-02
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种抛光方法及系统,其方法中,抛光设备在主控制器的控制下完成抛光动作,所述主控制器对所述抛光设备的进给方向进行力-位置混合控制。本发明的抛光方法及系统实现了抛光过程中待抛光工件与抛光工具的接触力恒定,提高了抛光的均匀性;保证了进刀过程中待抛光工件与抛光工具的平稳接触,避免了瞬间冲击力过大而造成的抛光设备的损伤;同时能自动跟踪工件表面轮廓简化加工轨迹规划,自动补偿抛光工具的磨损带来的影响。
申请日期2014-02-28
抛光方法及系统; 抛光方法及系统; 抛光方法及系统; 抛光方法及系统
专利号CN104875101A
专利状态公开
申请号CN201410071861.9
PCT属性
专利代理人陈振
文献类型专利
条目标识符http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16067
专题专利成果
推荐引用方式
GB/T 7714
夏庆华,肖可,闵孟斌,等. 抛光方法及系统, 抛光方法及系统, 抛光方法及系统, 抛光方法及系统. CN104875101A[P]. 2015-09-02.
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