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专利名称: 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法;  一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法
发明人: 莫高明;  苗玉龙;  钟希强;  何流;  陈海俊;  裴学良;  杨建行
授权日期: 2016-5-25
摘要: 本发明提供了一种清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应残留物的方法,该方法首先用可溶聚碳硅烷(PCS)的有机溶剂对反应容器进行清洗,再用氧化性酸对反应容器进行清洗,最后用去离子水或蒸馏水清洗反应容器后烘干。通过上述方法可快速、彻底清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应后的残留物,在保养反应设备的同时,减少了残留物对后续反应进程的影响,提高了反应产物性能的稳定性和可靠性。
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莫高明,苗玉龙,钟希强,等.一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法.Cn105601936a.2016.
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